外延 (晶体)
body.skin-minerva .mw-parser-output table.infobox captiontext-align:center
「外延 (晶体)」的各地常用別名 | |
---|---|
中国大陸 | 外延 |
港臺 | 磊晶[1] |
磊晶(英语:Epitaxy),是指一種用於半導體器件製造過程中,在原有晶片上長出新結晶以製成新半導體層的技術。此技術又稱外延成長(Epitaxial Growth),或指以外延技術成長出的結晶,有時可能也概指以外延技術製作的晶粒。
外延技術可用以製造矽電晶體到CMOS積體電路等各種元件,但在製作化合物半導體例如砷化鎵磊晶晶圓時,外延尤其重要。
外延成長技術的種類
- 化學氣相沉積
分子束外延技術:在高度真空下在表面沉積新的半導體結晶層的磊晶技術,相關可見真空蒸鍍技術。- 液相外延或稱液態外延(英语:Liquid Phase Epitaxy, LPE)的磊晶技術
- 固相外延(英语:Solid Phase Epitaxy, SPE)的磊晶技術
參考來源
- 文獻
.mw-parser-output .refbeginfont-size:90%;margin-bottom:0.5em.mw-parser-output .refbegin-hanging-indents>ullist-style-type:none;margin-left:0.mw-parser-output .refbegin-hanging-indents>ul>li,.mw-parser-output .refbegin-hanging-indents>dl>ddmargin-left:0;padding-left:3.2em;text-indent:-3.2em;list-style:none.mw-parser-output .refbegin-100font-size:100%
Jaeger, Richard C. Film Deposition. Introduction to Microelectronic Fabrication 2nd. Upper Saddle River: Prentice Hall. 2002. ISBN 0-201-44494-1.
- 引用
^ Epitaxy. 國家教育研究院. [2016-01-24] (中文). (繁体中文)
外部連結
|
epitaxy.net: a central forum for the epitaxy-communities- Deposition processes
这是一篇小作品。你可以通过编辑或修订扩充其内容。 |